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GX-1000大氣等離子體表面處理設備設計思路，國興技術講到實際上，低溫等離子體對物件進行處理的過程中，等離子氣體中的各種正負離子、高能量並高速運動著的電子、重粒子等都會對被處理材料表面發生物理反應和化學反應，所以上面所提及的低溫等離子體表面處理的四種（或五種）作用通常都會同時產生。
根據客戶對材料表面清潔處理要求，該低溫等離子體處理方案的設計開發和處理裝置設計目的主要是對材料進行表面清潔和表面活化，增加表面清潔度和材料的親水性，這是本項目設計中必須考慮的前提。
裝置設計中，要考慮到可以滿足放置較多的材料同時處理，以滿足批量生產的效率，該處理裝置處理效果的整體均勻性也是必須重點考慮的充要條件。
在保證滿足以上處理效果和要求的前提下，該裝置的設計還必須考慮有良好的性能價格比和安全可靠、經久耐用，儘量減少日常的維護成本。
本方案等離子體表面處理裝置的原理圖
GX-1000大氣等離子體表面處理設備設計的時候主要從以下幾個方面：
物體表面清潔處理方法
我們知道在真空等離子腔體內，物體經過射頻電源在必定的壓力情況下發生高能量的無序的等離子體，經過等離子體清洗產品表面，以到達清潔目的。
物體表面活化處理方法
經過等離子外表處理機過後的物體，增強了外表能，親水性，進步粘合度，附著力。
物體表面刻蝕處理辦法
資料外表經過反應氣體等離子被選擇性地刻蝕，被刻蝕的資料轉化為氣相並被真空泵排出，處理後的資料微觀比外表積增加並具傑出親水性。
